[发明专利]电熔丝结构在审
申请号: | 201310654425.X | 申请日: | 2013-12-05 |
公开(公告)号: | CN104701294A | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | 廖淼 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L23/525 | 分类号: | H01L23/525 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种电熔丝结构,包括:基底,在所述基底中形成有浅沟槽隔离结构;位于所述浅沟槽隔离结构上的电熔丝,所述电熔丝包括阳极、阴极、和位于所述阳极和阴极之间的熔丝;所述熔丝包括本体部、和位于所述本体部侧壁且沿所述本体部长度方向分布的多个凸部,位于所述本体部同一侧壁的相邻两凸部之间具有空隙。本技术方案中,熔丝的线条边缘粗糙度增加,包括多个凸部的熔丝形成工艺是可控的,利用凸部来增加熔丝的线条粗糙度的工艺是可控的,可得到具有符合要求的线条边缘粗糙度的电熔丝。 | ||
搜索关键词: | 电熔丝 结构 | ||
【主权项】:
一种电熔丝结构,其特征在于,包括:基底,在所述基底中形成有浅沟槽隔离结构;位于所述浅沟槽隔离结构上的电熔丝,所述电熔丝包括阳极、阴极、和位于所述阳极和阴极之间的熔丝;所述熔丝包括本体部、和位于所述本体部侧壁且沿所述本体部长度方向分布的多个凸部,位于所述本体部同一侧壁的相邻两凸部之间具有空隙。
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