[发明专利]用于含铜金属的蚀刻剂组合物有效
| 申请号： | 201310656909.8 | 申请日： | 2013-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN103911615B | 公开（公告）日： | 2017-08-22 |
| 发明（设计）人： | 权五炳;李智娟;田玹守 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 杨黎峰,石磊 |
| 地址： | 韩国全罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于含铜金属层的蚀刻剂组合物，所述组合物包括过氧化氢（H2O2）、由式1表示的水溶性化合物、和水，以增加可蚀刻的基板的数量，从而提高加工裕量。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 金属 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种用于含铜金属层的蚀刻剂组合物，包括：过氧化氢；由下式1表示的水溶性化合物；在分子中具有氮原子和羧基的水溶性化合物、或磷酸盐化合物中的至少一者；和水：[式1]式中，R1和R2分别独立地为氢原子或具有1个至5个碳原子的烷基，R3为羟基或具有1个至5个碳原子的烷基。
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