[发明专利]一种银溅射靶靶坯的制造方法

摘要

本发明公开了属于溅射靶材技术领域的一种制备银溅射靶靶坯的方法。该方法主要包括：对银铸锭进行空间三方向常温锻造，直接对冷却后的锻造银锭进行压延变形，形成银靶坯；对压延后的靶坯进行热处理，然后缓慢冷却，得到细小，分布均匀晶粒的银靶坯料。与传统工艺相比，本发明的优点在于：优化了传统的银铸锭锻造后热处理，再轧制热后处理的靶材晶粒细化的加工工艺，同时消除了上述工艺的容易产生整个靶坯的溅射面微观晶粒大小分布不均匀问题。通过采用可控性的塑性加工设备使得加工工艺的一致性、重复性得到保证。该方法工艺简单，设备操作灵活，生产效率高，适合大规模工业化生产。

主权项

一种银溅射靶靶坯的制造方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： 1）对银铸锭进行空间三方向常温锻造，然后冷却，要求：每个方向变形量均不小于45%，各变形方向变形量保持一致，锻造过程温度不能高于250℃； 2）对锻造冷却后的银锭，直接进行轧制变形，形成银靶坯； 3）对轧制后的靶坯进行热处理，热处理温度为280～400℃，保温时间为1～3h，然后空冷。