[发明专利]一种浸没式光刻机的液体控制装置

摘要

本发明涉及一种浸没式光刻机的液体控制装置，应用于浸没式光刻机中，包括液体维持装置和辅助液体维持装置，液体维持装置设于最后一片物镜的下方，其包括挡块，所述挡块围成与最后一片物镜的形状相匹配的腔体，挡块上设有水平进液口，与最后一片物镜的侧边的位置相对应；水平出液口，与水平进液口对称设置；垂直进液口，通至挡块的底部；垂直抽取口，通至挡块的底部，且垂直抽取口与腔体的中心的距离大于垂直进液口与腔体的中心的距离；辅助液体维持装置设于衬底与承载衬底的衬底台之间，且覆盖衬底台，包括气体供给通道，与第一气腔连通；真空供给通道，与第二气腔连通；第一气腔与第二气腔间通过第一间隙导通。本发明能够有效防止浸液泄漏。

主权项

一种浸没式光刻机的液体控制装置，应用于浸没式光刻机中，其特征在于，包括液体维持装置和辅助液体维持装置，其中，所述液体维持装置设于最后一片物镜的下方，其包括挡块，所述挡块围成一个腔体，所述挡块上设有：水平进液口，与所述最后一片物镜的侧边的位置相对应，向所述腔体内填充浸液；水平出液口，与所述水平进液口对称设置；垂直抽取口，通至所述挡块的底部；所述辅助液体维持装置设于衬底与承载衬底的衬底台之间，且覆盖所述衬底台，包括：气体供给通道，与第一气腔连通；真空供给通道，与第二气腔连通；所述第一气腔与所述第二气腔之间通过第一间隙导通，所述第一气腔和所述第二气腔均设于所述衬底台的边缘上，且所述第一气腔和所述第二气腔依次沿所述衬底下表面径向向外设置。