[发明专利]用于计算机硬盘基片无磨粒抛光液组合物有效

专利信息
申请号: 201310678098.1 申请日: 2013-12-13
公开(公告)号: CN103666282A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 雷红;赵蓉;张卫涛;蒋婷;任小艳 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C09G1/04 分类号: C09G1/04
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 陆聪明
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种用于计算机硬盘基片抛光的无磨粒抛光液组合物。本发明的抛光液含有金属离子、氧化剂、分散剂、表面活性剂和水,其特点在于该抛光液不含磨粒,并且同时含有金属离子和氧化剂。本发明的无磨粒抛光液组成及其重量百分比如下:金属离子添加剂0.2~1.2%;氧化剂1~6%;分散剂1.0~4.0%;表面活性剂1.0~4.0%;去离子水余量。采用本发明提供的无磨粒抛光液对硬盘基片进行抛光,可提高基片的去除速率,有效降低基片表面的粗糙度,减轻表面抛光微缺陷状况。
搜索关键词: 用于 计算机 硬盘 基片无磨粒 抛光 组合
【主权项】:
一种用于计算机硬盘基片抛光的无磨粒抛光液组合物,其特征在于该组合物的组成及其重量百分比含量如下:金属离子盐                                                        0.2~1.2%氧化剂双氧水                              1.0~6.0%分散剂六偏磷酸钠                          1.0~4.0%表面活性剂十六烷基聚氧乙烯醚羧酸盐        1.0~4.0%去离子水                                    余量所述的金属离子盐为Zn 离子或Mg离子的可溶性盐。
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