[发明专利]来自氧安德卢梭法的HCN中有机腈杂质水平的减少在审
申请号: | 201310680823.9 | 申请日: | 2013-12-12 |
公开(公告)号: | CN103864107A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 斯图尔特·福赛思;刘爱国;马丁·J·伦纳;布伦特·J·斯塔尔曼 | 申请(专利权)人: | 因温斯特技术公司 |
主分类号: | C01C3/02 | 分类号: | C01C3/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 陈平 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本发明提供一种用于由含有甲烷的进料如天然气在氧和氨的存在下在铂催化剂下制备氰化氢的氧安德卢梭法,其中减少了副产物有机腈杂质如丙烯腈的产生。发现:与空气安德卢梭法不同,限制所述氧安德卢梭法中甲烷进料中的C2+烃的含量减少有机腈如丙烯腈的形成。有机腈杂质可能需要另外的移除处理,导致设备的垢化,并且还可以有助于氰化氢聚合。将甲烷中C2+烃水平减少至小于2重量%,或1重量%,或小于0.1重量%可以提供更高纯度的HCN的提高的收率。C2+烃水平的减少还解决了工艺设备中聚合物积累的问题,从而减少当反应进料中存在更高的C2+烃水平时用于清洁所需的停工时间。 | ||
搜索关键词: | 来自 氧安德 卢梭 hcn 有机 杂质 水平 减少 | ||
【主权项】:
一种在氧安德卢梭法中的通过烷烃混合物与氨和氧在铂催化剂的存在下的安德卢梭氨氧化的HCN制备的方法,所述方法包括:使用包含至少约98重量%纯度的甲烷的烷烃混合物。
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