[发明专利]化学机械抛光控制系统的远程访问客户端有效
| 申请号： | 201310684504.5 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103678974A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 路新春;李弘恺;田芳馨;王同庆;赵乾;何永勇 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G06F21/31 | 分类号： | G06F21/31;G06F17/30;H04L29/06 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光控制系统的远程访问客户端，用于工艺人员访问化学机械抛光控制系统的晶圆加工信息数据库，方便工艺人员浏览其权限内全部晶圆加工信息记录。其中，晶圆加工信息数据库由MySQL数据库管理系统构建，运行在独立的服务器上，客户端用于向服务器发送对晶圆加工信息数据库的访问请求，以通过服务器获取访问晶圆加工信息数据库的权限，从而读取本权限内的信息。本发明的实施例可实现工艺人员远程登录远端的晶圆加工信息数据库，并根据其权限对数据库中的晶圆加工信息数据进行相应的操作，另外，该客户端安全、可靠、高效且操作方便。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 控制系统 远程 访问 客户端 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光控制系统的远程访问客户端，用于工艺人员访问化学机械抛光控制系统的晶圆加工信息数据库，其中，所述晶圆加工信息数据库由MySQL数据库管理系统构建，运行在独立的服务器上，其特征在于，所述客户端与所述服务器远程通讯，用于根据工艺人员输入的信息向所述服务器发送对所述晶圆加工信息数据库的访问请求，以通过所述服务器获取访问所述晶圆加工信息数据库的权限；所述服务器用于接收所述客户端发出的对所述晶圆加工信息数据库的访问请求，并根据所述访问请求向所述客户端提供相应的服务；所述晶圆加工信息数据库用于记录和保存晶圆的加工信息数据。
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