[发明专利]沉积设备、薄膜形成方法、有机发光显示设备及制造方法有效
| 申请号： | 201310684603.3 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN104069977B | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 许明洙;金善浩;朱儇佑;金宰贤 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | B05B16/20 | 分类号： | B05B16/20;H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 张云珠;李云霞 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了一种沉积设备、一种使用该沉积设备形成薄膜的方法、一种有机发光显示设备以及一种制造该有机发光显示设备的方法。沉积设备被构造为在基底上形成沉积层。沉积设备包括：沉积源，构造为面向基底的第一侧并朝向基底喷射一种或多种沉积材料；冷却台，构造为支撑基底的与基底的第一侧相对的第二侧；硬化单元，构造为硬化从沉积源喷射的并已到达基底的所述一种或多种沉积材料。通过使用沉积设备在基底上形成薄膜沉积层的方法包括：在基底位于沉积设备的冷却台上时，通过使用沉积设备的沉积源朝向基底喷射一种或多种沉积材料。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 薄膜 形成 方法 有机 发光 显示 制造 | ||
【主权项】：
1.一种构造为在基底上形成沉积层的沉积设备，所述沉积设备包括：沉积源，构造为面向基底的第一侧并朝向基底喷射一种或多种沉积材料；冷却台，构造为支撑基底的与基底的第一侧相对的第二侧；硬化单元，构造为硬化从沉积源喷射的并已到达基底的所述一种或多种沉积材料；以及支撑构件，构造为支撑沉积源和硬化单元，其中，支撑构件包括多个窗口，并且硬化单元包括与窗口对应的多个硬化构件，并且硬化构件通过窗口朝向基底辐射光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310684603.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
