[发明专利]全抛釉砖及其制备方法有效
| 申请号： | 201310696046.7 | 申请日： | 2013-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN103739279A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 刘家昶 | 申请（专利权）人： | 广州锦盈新型材料有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/16 | 分类号： | C04B35/16;C04B35/622;C04B41/86 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 何平 |
| 地址： | 510830 广东省广州市花都*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种全抛釉砖，底釉层的材料包括如下质量百分含量的原料：钠长石15%～25%、高岭土5%～12%、氢氧化铝1%～8%、石英25%～35%、滑石5%～15%、硅酸锆15%～20%、三聚磷酸钠0.3%～1%及硅灰石4%～5%；面釉层的材料包括如下质量百分含量的原料：钠长石15%～25%、高岭土8%～12%、氢氧化铝5%～9%、滑石5%～15%、三聚磷酸钠0.3%～1%、钾长石10%～25%、氧化锌3%～5%、硅灰石8%～20%及白云石5%～18%。上述全抛釉砖的白度达80°以上。此外，还提供一种全抛釉砖的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 全抛釉砖 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种全抛釉砖，其特征在于，包括依次层叠于坯体上的底釉层和面釉层，所述坯体的材料包括如下质量百分含量的原料：粘土18%～32%、长石30%～50%、石英20%～40%、滑石2%～3%及三聚磷酸钠0.3%～0.5%；所述底釉层的材料包括如下质量百分含量的原料：钠长石15%～25%、高岭土5%～12%、氢氧化铝1%～8%、石英25%～35%、滑石5%～15%、硅酸锆15%～20%、三聚磷酸钠0.3%～1%及硅灰石4%～5%；所述面釉层的材料包括如下质量百分含量的原料：钠长石15%～25%、高岭土8%～12%、氢氧化铝5%～9%、滑石5%～15%、三聚磷酸钠0.3%～1%、钾长石10%～25%、氧化锌3%～5%、硅灰石8%～20%及白云石5%～18%。
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