[发明专利]真空磁控溅射金属膜层厚度控制方法在审
| 申请号： | 201310706202.3 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN104726831A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 林孟君 | 申请（专利权）人： | 华泰（桐乡）玻璃明镜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人： | 胡畹华 |
| 地址： | 314500 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制方法，包括：一挡板，位于真空磁控溅射金属膜层真空室中，可于玻璃输送过程于侧向形成遮挡，让玻璃表面呈现所设定不同膜厚的图案效果；一电流控制器，于真空磁控溅射金属膜层生产室中，控制电流强度作用于金属靶材，于玻璃表面形成设定的膜层厚度；一输送速度控制器，于真空磁控溅射金属膜层真空室中，控制输送器输送玻璃的速度，可于玻璃表面依行程设定形成不同的膜层厚度。本发明可控制玻璃金属膜层单方向性的厚度及图案的成型，其侧方向性的厚度及图案控制可借由挡板来控制完成，电流控制器、输送速度控制器及挡板的移动可经由电脑程式化控制形成各种不同设定的图案表现。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 磁控溅射 金属膜 厚度 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制方法，其特征在于，包括如下步骤：一挡板，位于真空磁控溅射金属膜层真空室中，可于玻璃输送过程于侧向形成遮挡，让玻璃表面呈现所设定不同膜厚的图案效果；一电流控制器，于真空磁控溅射金属膜层生产室中，控制电流强度作用于金属靶材，于玻璃表面形成设定的膜层厚度；一输送速度控制器，于真空磁控溅射金属膜层真空室中，控制输送器输送玻璃的速度，可于玻璃表面依行程设定形成不同的膜层厚度。
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