[发明专利]双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置在审
| 申请号： | 201310706251.7 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN104730085A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 高志山;窦健泰;王若言;宋华清;杨忠明;王帅;成金龙;王凯亮;王伟;叶井飞 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G01B11/30;G02B27/44 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 朱显国 |
| 地址： | 210094 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，共光轴依次布置光源、孔径光阑、正透镜、半透半反分光镜、双焦波带片、待测平面掩膜，光线经孔径光阑形成点光源，再经正透镜形成平行光，平行光穿过半透半反分光镜，入射到双焦波带片上，0级衍射光束满足折射原理，+1级衍射光线在双焦波带片相位函数的调控下实现汇聚，携带待测平面掩膜表面面型相位信息的光反射形成返回光路。本发明中采用参考光与测试光共光路的双焦波带片显微干涉系统，双焦波带片实现了无焦和有焦距共存的衍射器件，相比于多片的透射透镜组系统，减少了透镜组透射的数量，而且双焦波带片干涉显微系统实现了振幅型缺陷和位相型缺陷的同步检测的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 波带片 干涉 显微 检测 平面 缺陷 装置 | ||
【主权项】：
一种双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，用于检测平面掩膜缺陷，其特征在于：包括激光光源（1）、孔径光阑（2）、正透镜（3）、半透半反分光镜（4）、双焦波带片（5）、待测平面掩膜（6）、CCD探测器（7）；共光轴依次布置激光光源（1）、孔径光阑（2）、正透镜（3）、半透半反分光镜（4）、双焦波带片（5）、待测平面掩膜（6），孔径光阑（2）位于正透镜（3）的焦点上，激光源（1）发出激光，入射至孔径光阑（2），经孔径光阑（2）形成点光源，再经正透镜（3）形成平行光，平行光穿过半透半反分光镜（4），入射到双焦波带片(5)，双焦波带片(5)的0级衍射光束满足折射原理，+1级衍射光线在双焦波带片（5）相位函数的调控下实现汇聚在待测平面掩膜（6），携带待测平面掩膜（6）表面面型相位信息的光反射形成返回光路，再次经过双焦波带片（5），入射到半透半反分光镜（4），经半透半反分光镜（4）反射到CCD探测器（7）形成干涉图像。
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