[发明专利]一种可调控光衰减机械装置在审

专利信息
申请号: 201310710093.2 申请日: 2013-12-22
公开(公告)号: CN104730707A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 廉哲 申请(专利权)人: 廉哲
主分类号: G02B26/02 分类号: G02B26/02
代理公司: 代理人:
地址: 110004 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 一种可调控光衰减机械装置,其特征在于:所述的可调控光衰减机械装置包括作业平台、光纤组、隔热片、传动机构、光学阻隔片;其中:光衰减装置是用来将沿着光轴从光纤组一端传播到另一端的光速衰减,光纤组端头之间设置有阻隔片,装置成中心对称,中间设置一组光纤组,光纤组两端依次设置有隔热片和光学阻隔片及传动机构。本发明的优点:本发明所述的可调控光衰减机械装置,衰减效果好,保证反射率低,硅做材质感应电流低,结构简单,成本降低。
搜索关键词: 一种 调控 衰减 机械 装置
【主权项】:
一种可调控光衰减机械装置,其特征在于:所述的可调控光衰减机械装置包括作业平台(1)、光纤组(2)、隔热片(3)、传动机构(4)、光学阻隔片(5);其中:光衰减装置是用来将沿着光轴从光纤组(2)一端传播到另一端的光速衰减,光纤组(2)端头之间设置有阻隔片,装置成中心对称,中间设置一组光纤组(2),光纤组(2)两端依次设置有隔热片(3)和光学阻隔片(5)及传动机构(4)。
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