[发明专利]有机发光显示设备的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310712479.7 申请日: 2013-12-20
公开(公告)号: CN104183547B 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 朴宰贤;金珍郁;金玮镕 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 代理人: 徐金国,钟强
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种有机发光显示设备的制造方法,包括在被限定在基板中的每个子像素区上形成薄膜晶体管;在提供有薄膜晶体管的基板上形成钝化层;在钝化层的每个子像素区中形成有机发光二极管的第一电极;在钝化层的子像素区的边界中形成堤岸图案;在堤岸图案上形成暴露出第一子像素区的光致抗蚀剂图案;通过在提供有光致抗蚀剂图案的基板的整个表面上沉积有机材料,在第一子像素区内的第一电极上形成有机发光层和在光致抗蚀剂图案上形成有机材料层;和使用分离膜去除光致抗蚀剂图案和有机材料图案。该分离膜包括聚合物粘土并设置在有机材料图案上,并且形成为包围有机材料图案和光致抗蚀剂图案的侧表面。
搜索关键词: 有机 发光 显示 设备 制造 方法
【主权项】:
一种制造有机发光显示设备的方法,所述方法包括:在被限定在基板中的每个子像素区上形成薄膜晶体管;在具有薄膜晶体管形成于其上的基板上形成钝化层;在钝化层的每个子像素区中形成有机发光二级管的第一电极;在钝化层的子像素区的边界中形成堤岸图案;在堤岸图案上形成暴露第一子像素区的光致抗蚀剂图案;通过在具有光致抗蚀剂图案的基板的整个表面上沉积有机材料,在第一子像素区内的第一电极上形成有机发光层和在光致抗蚀剂图案上形成有机材料图案;和使用分离膜去除光致抗蚀剂图案和有机材料图案,其中所述分离膜包括聚合物粘土,被设置在有机材料图案上,并形成为包围有机材料图案和光致抗蚀剂图案的侧表面。
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