[发明专利]旋转盘高温靶室系统有效
| 申请号： | 201310714957.8 | 申请日： | 2013-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN103762145A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 许波涛;易文杰;孙雪平 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/02 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强;李发军 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种旋转盘高温靶室系统。所述旋转盘高温靶室系统，有靶腔盖和靶腔，该靶腔盖和靶腔形成与离子束通道连通的密闭工艺腔；所述靶腔盖上装有位于密闭工艺腔内的靶盘，该靶盘上装有至少一个可相对靶腔转动的高温基座，每个高温基座内装有加热装置，每个加热装置外侧设有用于固定硅片的高温片托。此外，每个高温基座使用独立的加热装置进行加热，在注入过程中靶盘不用旋转，在硅片进行高温注入工艺时，其他高温基座上的硅片可以预热或冷却，此外，高温基座和常温基座均可以通过调节倾斜角度改变离子注入角度，扩大了工艺实用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转 高温 系统 | ||
【主权项】：
旋转盘高温靶室系统，有靶腔盖（7）和靶腔（5），该靶腔盖（7）和靶腔（5）形成与离子束通道连通的密闭工艺腔；所述靶腔盖（7）上装有位于密闭工艺腔内的靶盘（1）；其特征在于，所述靶盘（1）上装有至少一个可相对靶腔（5）转动的高温基座（3），每个高温基座（3）内装有加热装置，每个加热装置外侧设有用于固定硅片（19）的高温片托（6）。
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