[发明专利]沉积源以及具有其的沉积设备有效
| 申请号： | 201310718402.0 | 申请日： | 2013-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN104131253B | 公开（公告）日： | 2018-05-22 |
| 发明（设计）人： | 赵炫来;奇锡 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;韩芳 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了一种沉积源。所述沉积源包括：坩埚，容纳沉积材料并使沉积材料蒸发；网格构件，设置在坩埚中并与沉积材料分隔开预定的距离，网格构件包括通过网格构件形成的多个开口；格子构件，在坩埚中设置在网格构件上以将网格构件划分成多个格子区域；多个热球，设置在网格构件上并填充格子区域；以及盖，设置在坩埚上以覆盖坩埚，盖包括喷射孔以喷射蒸发的沉积材料。还提供了一种沉积设备，所述沉积设备包括：真空室，真空室包围沉积源；基底；以及基底支撑件。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 以及 具有 设备 | ||
【主权项】：
1.一种沉积源，所述沉积源包括：坩埚，容纳沉积材料并使沉积材料蒸发；网格构件，设置在坩埚中并与沉积材料分隔开预定的距离，网格构件包括通过网格构件形成的多个开口；格子构件，在坩埚中设置在网格构件上，以将网格构件划分成多个格子区域；多个热球，设置在网格构件上并填充格子区域；以及盖，设置在坩埚上以覆盖坩埚，盖包括喷射孔以喷射蒸发的沉积材料，其中，所述多个热球具有比坩埚被加热单元加热至的温度高的熔点，坩埚被加热至所述温度以蒸发沉积材料，所述多个热球由在被加热的坩埚的所述温度下不具有任何排气的材料形成。
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