[发明专利]一种用于芯片的光刻胶剥离液、制备方法及去胶工艺有效
| 申请号： | 201310719197.X | 申请日： | 2013-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN103676505A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 侯军;李波 | 申请（专利权）人： | 大连奥首科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京世誉鑫诚专利代理事务所(普通合伙) 11368 | 代理人： | 郭官厚 |
| 地址： | 116025 辽宁省大*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于芯片的光刻胶剥离液、制备方法及去胶工艺，所述剥离液包括剥离剂、润湿剂、有机胺或有机铵盐、缓蚀剂、助剂和有机溶剂。所述剥离液对各种芯片具有良好的光刻胶剥离和溶解能力，能够完全去除光刻胶，无残留，此外还能保证无腐蚀，具有广泛的工业应用潜力和价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 芯片 光刻 剥离 制备 方法 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种用于芯片的光刻胶剥离液，所述光刻胶剥离液包括下述重量份的各种组分：![]()
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