[发明专利]掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的硅太阳电池在审
申请号: | 201310723503.7 | 申请日: | 2013-12-24 |
公开(公告)号: | CN103681887A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 杨志;黄达;耿会娟;王英;张亚非 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/068 |
代理公司: | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人: | 郑立 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的硅太阳电池,包括由下而上依次逐层连接的背电极、p型硅衬底、n型层、减反射层和前电极,在n型层与减反射层之间分布有掺杂铝或硼的ZnO纳米线。本发明将掺杂ZnO纳米线组装到硅太阳电池基片表面,形成透明导电陷光结构复合层,增强电池对太阳光的有效吸收捕获,从而提高硅太阳电池的光电转换效率,比传统的硅太阳电池的光电转换效率提高1-5%。如某类型传统的硅太阳电池的光电转换效率是16%,则本发明公开的掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的相应类型硅太阳电池光电转换效率可达17-21%。 | ||
搜索关键词: | 掺杂 zno 纳米 透明 导电 结构 太阳电池 | ||
【主权项】:
一种掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的硅太阳电池,其特征在于,所述硅太阳电池包括由下而上依次逐层连接的背电极、p型硅衬底、n型层、减反射层和前电极;在所述n型层和所述减反射层之间分布有掺杂ZnO纳米线。
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