[发明专利]掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的硅太阳电池在审

专利信息
申请号: 201310723503.7 申请日: 2013-12-24
公开(公告)号: CN103681887A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 杨志;黄达;耿会娟;王英;张亚非 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/068
代理公司: 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 代理人: 郑立
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的硅太阳电池,包括由下而上依次逐层连接的背电极、p型硅衬底、n型层、减反射层和前电极,在n型层与减反射层之间分布有掺杂铝或硼的ZnO纳米线。本发明将掺杂ZnO纳米线组装到硅太阳电池基片表面,形成透明导电陷光结构复合层,增强电池对太阳光的有效吸收捕获,从而提高硅太阳电池的光电转换效率,比传统的硅太阳电池的光电转换效率提高1-5%。如某类型传统的硅太阳电池的光电转换效率是16%,则本发明公开的掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的相应类型硅太阳电池光电转换效率可达17-21%。
搜索关键词: 掺杂 zno 纳米 透明 导电 结构 太阳电池
【主权项】:
一种掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的硅太阳电池,其特征在于,所述硅太阳电池包括由下而上依次逐层连接的背电极、p型硅衬底、n型层、减反射层和前电极;在所述n型层和所述减反射层之间分布有掺杂ZnO纳米线。
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