[发明专利]冷却装置及等离子体加工设备有效

专利信息
申请号: 201310739828.4 申请日: 2013-12-27
公开(公告)号: CN104752133B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 蒲春 申请(专利权)人: 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;H01L21/67
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 彭瑞欣,张天舒
地址: 100176 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及冷却装置及等离子体加工设备,包括喷淋装置及水槽,在反应腔室的与相应设备相对的侧面上设有第一开口,用以连通反应腔室与相应设备;在水槽的与第一开口相同一侧的侧壁上设置有第二开口;第二开口所在水槽侧面上设有凹槽,凹槽沿第二开口的两侧及下部将第二开口包围;凹槽内设有与其相匹配的密封圈,且密封圈与凹槽之间形成密封空间;冷却装置还包括气源与抽真空装置,气源和抽真空装置均与密封空间连通;其中气源用于在冷却装置工作时向密封空间内输入气体,以使密封圈的一部分在气体压力下向凹槽之外伸出,并使密封圈与相应设备紧密接触;抽真空装置用于在拆卸冷却装置时对密封空间抽真空,以使伸出凹槽的密封圈的一部分缩回凹槽内。
搜索关键词: 冷却 装置 等离子体 加工 设备
【主权项】:
一种冷却装置,用于冷却反应腔室,其包括设于反应腔室上方的喷淋装置及设于反应腔室下方的水槽,所述喷淋装置用于朝向所述反应腔室喷淋冷却水,所述冷却水流经所述反应腔室之后流入所述水槽;其特征在于,在所述反应腔室的与相应设备相对的侧面上设有第一开口,用以连通所述反应腔室与相应设备;在所述水槽的与所述第一开口相同一侧的侧壁上设置有第二开口;所述第二开口所在水槽侧面上设有凹槽,所述凹槽沿所述第二开口的两侧及下部将所述第二开口包围;所述凹槽内设有与其相匹配的密封圈,且所述密封圈与所述凹槽之间形成密封空间;所述冷却装置还包括气源与抽真空装置,所述气源和抽真空装置均与所述密封空间连通;其中所述气源用于在所述冷却装置工作时向所述密封空间内输入气体,以使所述密封圈的一部分在气体压力下向所述凹槽之外伸出,并使所述密封圈与相应设备紧密接触;所述抽真空装置用于在拆卸所述冷却装置时对所述密封空间抽真空,以使伸出所述凹槽的密封圈的一部分缩回所述凹槽内。
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