[发明专利]用于激光脉冲整形的等离子体开关有效
申请号: | 201310740490.4 | 申请日: | 2013-12-28 |
公开(公告)号: | CN103744197A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 刘璐宁;王新兵;卢宏;左都罗;陆培祥 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;H01S3/10 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于激光脉冲整形的等离子体开关,该等离子体开关的背景气体中混有易电离的气体,并使气体能够处于不断流动的状态,开关中还放置有冷却装置。易电离的气体可以为三乙胺。开关的具体结构包括真空腔,以及位于真空腔内的第一透镜、第二透镜、风扇和热交换器;第一透镜、第二透镜为两个相同的ZnSe透镜,真空腔上开有两个正对的观察窗,用于激光的输入和输出;真空腔的两个观察窗的中心,与第一透镜、第二透镜的中心在一条直线上,且两透镜间的距离为2f,f为透镜的焦距。本发明与现有等离子体开关的优势是在缩短脉宽的同时,保证了较高的激光透过率,从而使输出脉冲有较高的峰值功率,并提高了装置的重复率。 | ||
搜索关键词: | 用于 激光 脉冲 整形 等离子体 开关 | ||
【主权项】:
一种用于激光脉冲整形的等离子体开关,其特征在于,该等离子体开关的背景气体中混有易电离的气体,并使气体能够处于不断流动的状态,开关中还放置有冷却装置。
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