[发明专利]结构光光斑图案生成方法和结构光光斑图案生成设备有效
申请号: | 201310744036.6 | 申请日: | 2013-12-30 |
公开(公告)号: | CN104751482B | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 王琳 | 申请(专利权)人: | 联想(北京)有限公司 |
主分类号: | G06T7/246 | 分类号: | G06T7/246 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 安之斐 |
地址: | 100085*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种结构光光斑图案生成方法和设备。结构光光斑图案生成方法,包括:初始随机化步骤,选择要生成的光斑图案中的初始子区域,将初始子区域中的各像素以由0和1组成的初始随机矩阵随机化;移动随机化步骤,获得移动子区域,并且将移动子区域中与初始子区域不重叠的h个像素以由0和1组成的1×h移动随机矢量随机化,1×h移动随机矢量不同于初始随机矩阵中的w个列矢量;以及判断输出步骤,判断移动子区域是否处于光斑图案边缘,如果移动子区域没有处于光斑图案边缘,则返回移动随机化步骤,否则则输出光斑图案,其中,各移动子区域的随机化使得各移动子区域之间对应矢量的汉明距离之和最大。 | ||
搜索关键词: | 结构 光斑 图案 生成 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.一种结构光光斑图案生成方法,包括以下步骤:初始化步骤,生成初始光斑图案,所述初始光斑图案为W个像素宽,H个像素高,W和H为大于1的自然数,所述初始光斑图案中的所有像素为暗像素;随机矩阵生成步骤,生成W×H的随机实数矩阵;局部最大值提取步骤,提取所述随机实数矩阵中的m×n实数矩阵子区域中具有局部最大值的矩阵元,m是小于W的自然数,n是小于H的自然数;输出光斑图案生成步骤,将所述初始光斑图案的W×H像素矩阵中处于对应于具有所述局部最大值的矩阵元的像素置为亮像素,生成输出光斑图案;以及整体优化步骤,将所述生成的输出光斑图案中亮像素移动到其领域位置之一,基于预定策略计算移动后输出光斑图案中每个w×h像素矩阵子区域与其他区域的汉明距离,并且选择具有最大的汉明距离之和的所述移动后输出光斑图案作为所述输出光斑图案,w是小于W的自然数,h是小于H的自然数,其中,所述输出光斑图案中任意子区域的之间对应矢量的汉明距离之和最大。
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