[发明专利]判断功率半导体模块基板拱度的装置及其方法有效
申请号: | 201310749790.9 | 申请日: | 2013-12-31 |
公开(公告)号: | CN103745942A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 贺新强;彭勇殿;李继鲁;曾雄;戴小平;吴煜东 | 申请(专利权)人: | 株洲南车时代电气股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人: | 赵洪 |
地址: | 412001 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种判断功率半导体模块基板拱度的装置及其方法,装置包括测量模块,对功率半导体模块基板的表面进行取点操作,在其表面测取三个以上的测量点,并将其空间位置数据传送至处理模块;处理模块,根据测量点的空间位置数据,经过计算处理得到基准面空间位置数据,进而得到并输出功率半导体模块基板表面与基准面空间位置数据的差值数据至显示模块,输出平面度数据,计算基板的最高点位置数据,并判断数据是否合格;显示模块,接收处理模块传送的差值数据并生成图形,判断图形是否合格,结合处理模块的数据判断结果输出最终结果。本发明能满足对功率半导体模块基板轮廓进行判断的需求,快速简单地对基板的平面度,以及凹面和凸面进行判断。 | ||
搜索关键词: | 判断 功率 半导体 模块 基板拱度 装置 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种判断功率半导体模块基板拱度的装置,其特征在于,包括:测量模块(1),对功率半导体模块基板的表面(S)进行平面取点操作,在所述功率半导体模块基板的表面(S)测取三个以上的测量点,并将所述测量点的空间位置数据传送至处理模块(2);处理模块(2),根据所述测量模块(1)测得的所述测量点的空间位置数据,经过计算处理得到所述功率半导体模块基板的基准面(S′)的空间位置数据,进而得到所述功率半导体模块基板的表面(S)与所述基准面(S′)的空间位置数据的差值数据,并将所述差值数据输出至显示模块(3);同时输出平面度数据,计算出所述功率半导体模块基板的最高点位置数据,判断所述最高点位置数据是否合格;显示模块(3),接收所述处理模块(2)传送的所述功率半导体模块基板的表面(S)与所述基准面(S′)的空间位置数据的差值数据,根据所述空间位置数据的差值数据生成图形,并判断所述图形是否合格,结合所述处理模块(2)的最高点位置数据判断结果输出最终的结果。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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