[发明专利]或逻辑和与非逻辑器件的结构及制作方法在审

专利信息
申请号: 201310752395.6 申请日: 2013-12-31
公开(公告)号: CN104752418A 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: 吴兵;王永成;戴有江 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/088;H01L29/423;H01L21/8234;H01L21/28;H03K19/173
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种或和与非逻辑器件的结构,或逻辑器件制作在接地的p阱或p型衬底中,上面有两个并联并紧邻的门控栅,各自控制其下两个相邻并并联的n型导电沟道;在沿着两个门控栅交界线的方向上,在门控栅两端有高掺杂n型源区和漏区,作为两个沟道的引出端;门控栅上各有一个多晶硅栅极,两个多晶硅栅极相互电学隔离并独立引出,作为或逻辑的两个输入端。与非逻辑器件和或逻辑器件结构类似,不同的是制作在n阱或n型衬底中,源漏区为高掺杂p型。本发明还公开了上述结构的或和与非逻辑器件的制作方法。本发明通过设计新型的或和与非逻辑器件结构,不仅简化了器件和电路结构,减小了电路面积和制造成本,而且使电路的时序控制更为简单。
搜索关键词: 逻辑 器件 结构 制作方法
【主权项】:
或逻辑器件的结构,其特征在于,制作在p阱或p型衬底中,p阱或p型衬底接地,上面有两个并联并紧邻的门控栅,各自控制其下两个相邻并并联的n型导电沟道;在沿着两个门控栅交界线的方向上,在门控栅的两端有高掺杂n型源区和漏区,作为两个n型导电沟道的引出端;门控栅上各有一个多晶硅栅极,两个多晶硅栅极相互电学隔离并独立引出,作为或逻辑的两个输入端。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司;,未经上海华虹宏力半导体制造有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310752395.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top