[发明专利]具有尺寸可扩展性的JFET仿真方法有效

专利信息
申请号: 201310753016.5 申请日: 2013-12-31
公开(公告)号: CN104750900B 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 武洁 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 丁纪铁
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种尺寸可扩展性的JFET仿真方法,常规的JFET仿真方法只能描述单一尺寸的JFET器件特性,不同尺寸的JFET器件需要使用不同的SPICE仿真来进行描述,本发明在业界标准的JFET SPICE仿真基础上,通过改写部分仿真参数,使其能具备与尺寸的变化相关联的参数,实现尺寸变化的JFET的仿真的可扩展性。
搜索关键词: 可扩展性 尺寸变化 仿真参数 常规的 改写 关联
【主权项】:
一种具有尺寸可扩展性的JFET仿真方法,其特征在于:在标准JFET SPICE仿真模型基础上,将与器件尺寸相关的参数进行修正,使其能准确描述不同尺寸的JFET器件的特性;在标准JFET仿真基础上,修正器件尺寸相关的源、漏、栅串联电阻的参数:AREAeff=(W‑DW)*(L‑DL)*PFRSeff=RS/AREAeffRDeff=RD/AREAeffRGeff=RG*AREAeff其中,RSeff、RDeff、RGeff代表与JFET尺寸相关的源、漏、栅串联电阻,W、L为掩模版上的设计尺寸,DL代表由于工艺变化对JFET沟道长度的影响,DW代表由于工艺变化对JFET沟道宽度的影响,RS、RD、RG分别是源、漏、栅串联电阻,PF代表相同JFET并联的个数,AREAeff代表JFET有效面积;在标准JFET仿真基础上,修正器件尺寸相关的栅源、栅漏二极管对应反向饱和电流和反向扩散电容模型参数:ISeff=IS*AREAeff;CGSeff=CGS*AREAeff;CGDeff=CGD*AREAeff;其中,IS、CGS、CGD为JFET标准模型参数,IS代表JFET栅源/栅漏二极管反向饱和电流,CGS代表栅源二极管方向扩散电容,CGD代表栅漏二极管方向扩散电容;ISeff代表与JFET尺寸相关的栅源/栅漏二极管反向饱和电流,CGSeff、CGDeff分别代表与JFET尺寸相关的栅源、栅漏二极管反向扩散电容;在标准JFET仿真基础上,修正器件尺寸相关的跨导模型参数、沟道长度调制系数和阈值电压模型参数:BETAeff=BETA*(1+BETAW*Weff)BETAWN*PF/(1+BETAL*Leff)BETALN;LAMBDAeff=LAMBDA/(1+LANBDAL*Leff)LAMBDALN;VTOeff=VTO*(1+VTOL*Leff)VTOLN*(1+VTOW*Weff)VTOWN;Leff=(L‑DL) ;Weff=(W‑DW) ;其中,BETA为跨导标准模型参数,BETAL、BETALN分别代表跨导对应沟道长度系数和对应指数系数;BETAeff代表与JFET尺寸相关的跨导参数;BETAW、BETAWN分别代表跨导对应沟道宽度系数和对应指数系数;LAMBDAeff代表与JFET尺寸相关的沟道长度调制参数;LAMBDA代表标准JFET模型中沟道长度调制参数;Leff代表JFET有效沟道长度;Weff代表有效沟道宽度; LAMBDAL、LAMBDALN分别代表沟道长度调制系数和对应指数系数;VTOeff代表与JFET尺寸相关的阈值电压模型参数;VTO代表JFET阈值电压标准模型参数;VTOL、VTOLN分别代表阈值电压对应沟道长度系数和指数系数;VTOW、VTOWN分别代表阈值电压对应沟道宽度系数和指数系数。
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