[发明专利]一种硅片研磨液

摘要

本发明涉及一种硅片研磨液包括氧化铝35-45份、氧化硅15-25份、三聚氰胺10-15份、氧化铈11-15份、甲基丙烯酸3-9份、硅酸钠2-5份、氧化锆1-3份、十八烷基三甲基溴化胺4-13份、聚二烯丙基二甲基氯化铵1-8份、聚氧乙烯醚2-7份、二甲亚砜环己烷4-8份、羟甲基纤维素3-6份、渗透剂2-8份、表面活性剂3-9份。将上述原料混合在110-130℃下搅拌均匀得到研磨液，固体原料的粒径为50-120nm。本发明的制备方法简单，易实现，本发明制备的研磨材料的研磨精度和研磨效率均很高。

主权项

一种硅片研磨液包括：氧化铝、氧化硅、三聚氰胺、氧化铈、甲基丙烯酸、硅酸钠、氧化锆、十八烷基三甲基溴化胺、聚二烯丙基二甲基氯化铵、聚氧乙烯醚、二甲亚砜环己烷、羟甲基纤维素、渗透剂、表面活性剂；其特征在于所述氧化铝35‑45份、氧化硅15‑25份、三聚氰胺10‑15份、氧化铈11‑15份、甲基丙烯酸3‑9份、硅酸钠2‑5份、氧化锆1‑3份、十八烷基三甲基溴化胺4‑13份、聚二烯丙基二甲基氯化铵1‑8份、聚氧乙烯醚2‑7份、二甲亚砜环己烷4‑8份、羟甲基纤维素3‑6份、渗透剂2‑8份、表面活性剂3‑9份。