[发明专利]产酸剂和含有它的光刻胶有效

专利信息
申请号: 201310757451.5 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN103913951B 公开(公告)日: 2019-01-08
发明(设计)人: J·W·撒克里;P·J·拉宝美;J·F·卡梅伦 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/20
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 产酸剂和含有它的光刻胶。提供作为光刻胶组合物组分特别有用的产酸剂化合物。在一个优选的方面,提供光刻胶,包括:(i)一种聚合物;(ii)第一鎓盐产酸剂,当光刻胶组合物曝光于活化辐射时,其产生第一种酸;和(iii)第二鎓盐产酸剂,其1)含有共价键合的酸不稳定部分并且2)当光刻胶组合物曝光于活化辐射时,其产生第二种酸,其中第一种酸和第二种酸具有相差至少0.5的pKa值。
搜索关键词: 产酸剂 含有 光刻
【主权项】:
1.一种光刻胶组合物,所述光刻胶组合物包括:(i)一种聚合物;(ii)对应于下式(I)的产酸剂:其中R1、R2和R3为相同或不同的非氢取代基,且R1、R2和R3可任意合起来形成环,且Z‑为磺酸根部分的α位含有至少一个吸电子取代基的磺酸根阴离子;并且(iii)对应于下式(IV)的产酸剂:其中R4和R5为相同或不同的非氢取代基并且可合起来形成环;或R4或R5之一可与芳香取代基形成环;A为非氢取代基;m为0‑4的整数;R6为提供酸不稳定部分的非氢取代基;以及Q‑为羧酸根、磺酸根、或氨基磺酸根阴离子,在羧酸根、磺酸根、或氨基磺酸根部分的α位置不包含吸电子基团。
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