[实用新型]镭射全像模内漾印结构有效

专利信息
申请号: 201320008865.3 申请日: 2013-01-08
公开(公告)号: CN203293600U 公开(公告)日: 2013-11-20
发明(设计)人: 李书铭;邱子彰;林颖志;赖铭璋 申请(专利权)人: 岱纬科技股份有限公司
主分类号: B32B5/00 分类号: B32B5/00
代理公司: 广州中浚雄杰知识产权代理有限责任公司 44254 代理人: 孙凤英
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种镭射全像模内漾印结构,设有一供射出成型的模具,于模具上设有显像膜,所述显像膜含括有复合基材层、离型层、硬化层、介质层、显像层及粘着层。该显像层选择上可利用与前结构层光折射率差异或是光反射来显现雷射全像效果,如有机树脂、金属及部份金属盐类,而且此显像层至少设有一层以上的结构,借着不同多层的显像层设计,可控制雷射全像的3D图案的强弱显现,也就是可由不同角度,将可由壳体上的显像膜视得雷射所成型的3D视觉。
搜索关键词: 镭射 全像模内漾印 结构
【主权项】:
一种镭射全像模内漾印结构,其特征在于:设有一供射出成型的模具,于模具上设有显像膜,所述显像膜含括有复合基材层、离型层、硬化层、介质层、显像层及粘着层。
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