[实用新型]矩形平面多弧靶及真空镀膜装置有效
| 申请号： | 201320025570.7 | 申请日： | 2013-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN203096160U | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 王叔晖;刘竹杨 | 申请（专利权）人： | 上海法德机械设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 胡美强;邱江霞 |
| 地址： | 201616 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种矩形平面多弧靶及真空镀膜装置。该矩形平面多弧靶包括一靶座、一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶座的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定该靶材的一靶材区域，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材。本实用新型的矩形平面多弧靶及真空镀膜装置通过设置绝缘的陶瓷件在固定靶材的同时起到灭弧作用，提高了溅射镀膜的稳定性和效率。 | ||
| 搜索关键词： | 矩形 平面 多弧靶 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种矩形平面多弧靶，包括一靶座，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶座的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定一靶材的一靶材区域，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材。
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