[实用新型]矩形平面多弧靶及真空镀膜装置有效
| 申请号： | 201320025752.4 | 申请日： | 2013-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN203096162U | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 王叔晖;刘竹杨 | 申请（专利权）人： | 上海法德机械设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 胡美强;邱江霞 |
| 地址： | 201616 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种矩形平面多弧靶及真空镀膜装置。该矩形平面多弧靶包括一靶座，该靶座的顶端面上设有用于容纳固定靶材的一靶材区域，该矩形平面多弧靶还包括一组电磁线圈和一永磁体，该组电磁线圈设于该靶座下方对应于该靶材区域的位置，该永磁体设于该组电磁线圈的中间。本实用新型的矩形平面多弧靶及真空镀膜装置，设置了可调的电磁线圈与磁钢共同产生磁场，通过调节电磁线圈通过的电流来调节磁场从而获得最佳的约束效果，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 矩形 平面 多弧靶 真空镀膜 装置 | ||
【主权项】：
一种矩形平面多弧靶，包括一靶座，该靶座的顶端面上设有用于容纳固定靶材的一靶材区域，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一组电磁线圈和一永磁体，该组电磁线圈设于该靶座下方对应于该靶材区域的位置，该永磁体设于该组电磁线圈的中间。
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