[实用新型]一种异物检查处理装置及曝光机有效
申请号: | 201320045952.6 | 申请日: | 2013-01-28 |
公开(公告)号: | CN203054450U | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 黄常刚;张思凯;汪栋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/00;G01B11/28;G01N21/88 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种异物检查处理装置及曝光机,其中异物检查处理装置用于对基板上的异物进行检查和处理,包括:用于承载基板的承载台;设置在基板两侧的光源,光源设置在承载台上;设置在承载台上的固定架;用于捕捉由基板上的异物经光源照射而发生散射的光线,并成像的第一图像传感器,设置在固定架上,以获得异物的位置和面积信息,并可在基板相对应的上方区域内移动;用于减小基板上的异物的高度,以使得异物的高度小于第一预设值的异物处理结构,设置在固定架上。异物检查处理装置使得异物的高度满足基板进行曝光的工艺要求,减小由于异物高度过大而造成的不能进行曝光的基板的损失。 | ||
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【主权项】:
一种异物检查处理装置,用于对基板上的异物进行检查和处理,其特征在于,包括:承载台,用于承载基板;设置在基板两侧的光源,所述光源设置在所述承载台上;设置在所述承载台上的固定架;设置在所述固定架上的第一图像传感器,用于捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像,以获得异物的位置和面积信息,并可在所述基板相对应的上方区域内移动;设置在所述固定架上的异物处理组件,用于对检测到的异物进行处理,减小基板上的异物的高度,以使得异物的高度小于第一预设值。
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