[实用新型]旋转剪切流塔盘有效

专利信息
申请号: 201320063113.7 申请日: 2013-02-04
公开(公告)号: CN203090513U 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 沈宏 申请(专利权)人: 沈宏
主分类号: B01D3/30 分类号: B01D3/30;B01D3/14;B01D53/18;B01J19/00;B01J19/32
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 王兵;黄美娟
地址: 310014 浙江省杭州市下*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 旋转剪切流塔盘,包括塔盘,所述的塔盘上设置若干降液管、若干喷射斜孔,所述的降液管的一端固定在所述的塔盘的外圈、另一端向塔盘中心延伸直至连通在塔盘下方的中心集液管内,所述的中心集液管出液口通入位于中心集液管下方的受液槽内;所述的喷射斜孔以所述的塔盘的中心为圆心周向排列形成的若干圈同心的喷射斜孔圈,且位于所述的降液管圈的圆内的所述的喷射斜孔圈的喷射口顺、逆时针间隔排列。本实用新型的有益效果是:1)加大气、液接触面积,加快气液两相表面的更新、降低气膜和液膜阻力;2)强化涡流扩散传递;3)加大气、液接触时间;4)保证气、液多次逆流接触,防止气、液短路、夹带、返混,提高传质推动力。
搜索关键词: 旋转 剪切 流塔盘
【主权项】:
旋转剪切流塔盘,包括塔盘,其特征在于:所述的塔盘上设置若干降液管、若干喷射斜孔,所述的降液管的一端固定在所述的塔盘的外圈、另一端向塔盘中心延伸直至连通在塔盘下方的中心集液管内,所述的中心集液管出液口通入位于中心集液管下方的受液槽内,所述的降液管沿所述的塔盘的周向排布形成一圈降液管圈,并且所述的降液管固定在所述的塔盘的一端高出所述的塔盘上表面;所述的受液槽通过拉筋板与中心集液管连接,并利用中心集液管出口与受液槽溢出口之间的液位差形成液封,且所述的受液槽的槽壁上设置溢出口;所述的喷射斜孔以所述的塔盘的中心为圆心周向排列形成的若干圈同心的喷射斜孔圈,且位于所述的降液管圈的圆内的所述的喷射斜孔圈的喷射口顺、逆时针间隔排列、位于所述的降液管圈的圆外的所述的喷射斜孔圈的喷射口朝向所述的塔盘的中心。
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