[实用新型]用于将RF能量施加到旋转室的装置有效
| 申请号： | 201320076948.6 | 申请日： | 2013-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN203387711U | 公开（公告）日： | 2014-01-08 |
| 发明（设计）人： | 史蒂芬·R·罗杰斯;本·齐克尔;阿夫纳·李伯曼 | 申请（专利权）人： | 高知有限公司 |
| 主分类号： | H05B6/46 | 分类号： | H05B6/46 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 周靖;郑霞 |
| 地址： | 百慕大*** | 国省代码： | 百慕大群岛;BM |
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| 摘要： | 本实用新型涉及用于将RF能量施加到旋转室的装置。本实用新型的一些示例性方面目的可在于一种用于通过按多个激发设置施加的RF能量来处理物体的装置。该装置可包括控制器，其配置成从多个引导激发设置当中选择一个或多个激发设置，用于将RF能量施加到旋转室；以及使RF能量源将RF能量按一个或多个选定激发设置来施加，其中所述控制器配置成选择一个或多个激发设置并使RF能量源在旋转室的单次旋转期间将RF能量按一个或多个选定激发设置施加至少两次。该装置可以是干燥器。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 rf 能量 施加 旋转 装置 | ||
【主权项】：
一种用于通过以多个激发设置施加的RF能量来处理物体的装置，所述装置包括： 控制器、一个或多个辐射元件和能量施加区域； 其中，所述控制器电耦合到所述一个或多个辐射元件，所述一个或多个辐射元件将RF能量辐射到所述能量施加区域并且辐射到旋转室； 并且其中，所述控制器配置成从多个引导激发设置当中选择一个或多个激发设置，用于将RF能量施加到所述旋转室；以及 使RF能量源按一个或多个选定激发设置施加RF能量，其中所述控制器配置成选择所述一个或多个激发设置而且使所述RF能量源在所述旋转室的单次旋转期间按所述一个或多个选定激发设置施加RF能量至少两次。
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