[实用新型]晶圆减薄加工固定装置有效
申请号: | 201320080824.5 | 申请日: | 2013-02-21 |
公开(公告)号: | CN203165872U | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 陈孟端 | 申请(专利权)人: | 正恩科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L33/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;李静 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型提供一晶圆减薄加工固定装置,其包含一胶膜、一铁环与一吸盘,用于固定至少一晶圆,其中该胶膜具有一黏贴面与一底面,该胶膜的黏贴面固定于该铁环下,并该胶膜的底面于该铁环内形成一顶靠处,且该胶膜的黏贴面相对该顶靠处的区域形成至少一黏贴处,该至少一晶圆黏贴于该至少一黏贴处,并且该吸盘具有提供负压的一吸附面,该吸附面为供接触该顶靠处,以通过负压而吸附固定该晶圆,据此通过该胶膜的保护与固定,即可直接利用该吸盘间隔该胶膜来间接地吸附固定该晶圆,而形成一种可快速固定及解除固定并兼具高良率的发光二极管晶圆固定装置,以在晶圆减薄加工时使用,并满足使用上的需要。 | ||
搜索关键词: | 晶圆减薄 加工 固定 装置 | ||
【主权项】:
一种晶圆减薄加工固定装置,用于固定至少一晶圆,其特征在于,所述晶圆减薄加工固定装置包含:一胶膜,所述胶膜具有一黏贴面与一底面;一铁环,所述胶膜的所述黏贴面固定于所述铁环下,并且所述胶膜的所述底面在所述铁环内形成一顶靠处,且所述胶膜的所述黏贴面相对于所述顶靠处的区域形成有至少一黏贴处,所述至少一晶圆黏贴于所述至少一黏贴处;以及一吸盘,所述吸盘具有提供负压的一吸附面,所述吸附面供接触所述顶靠处。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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