[实用新型]一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置有效
| 申请号： | 201320149122.8 | 申请日： | 2013-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN203134754U | 公开（公告）日： | 2013-08-14 |
| 发明（设计）人： | 赵吾阳;蒋冬华;倪水滨 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及干刻蚀技术领域，特别涉及一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置，用于提高基板刻蚀的合格率。本实用新型公开了一种干刻蚀装置的下部电极，包括：电极底板，设置于所述电极底板上的多个凸起；其中，每个所述凸起外表面具有多个向上的毛刺状结构。在本实用新型中，干刻蚀装置的下部电极具有多个凸起，每个凸起的表面具有多个毛刺状结构，当将待刻蚀基板放置在下部电极上时，基板与每个凸起上的毛刺状结构接触，这种接触方式属点接触，与现有技术中基板与凸起之间面接触相比，减小了基板与凸起之间的接触面积，从而减小了基板上与凸起接触区和非接触区之间的温度差异，进而提高了干刻蚀工序的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 装置 下部 电极 | ||
【主权项】：
一种干刻蚀装置的下部电极，其特征在于，包括：电极底板，位于所述电极底板上的多个凸起；其中，每个所述凸起外表面具有多个向上的毛刺状结构。
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