[实用新型]静电保护电路及其电池保护电路有效

专利信息
申请号: 201320156659.7 申请日: 2013-03-31
公开(公告)号: CN203277382U 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 王钊;尹航 申请(专利权)人: 无锡中星微电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H02H7/18;H02H9/04
代理公司: 无锡互维知识产权代理有限公司 32236 代理人: 戴薇
地址: 214028 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型提供一种静电保护电路及其电池保护电路,所述静电保护电路包括连接于第一连接端和第二连接端之间的静电保护器件,该静电保护器件包括P型衬底,沿所述P型衬底的上表面向下延伸至P型衬底中的N阱,位于所述P型衬底和所述N阱上的栅氧层,位于所述栅氧层上的栅极,沿所述P型衬底的上表面向下延伸至P型衬底中的第一P+有源区和第一N+有源区,沿所述N阱的上表面向下延伸至N阱中的第二P+有源区和第二N+有源区,第一P+有源区、第一N+有源区和栅极与第二连接端相连,第二P+有源区和第二N+有源区与第一连接端相连。该静电保护器件耐压高,同时静电泄放能力较强。
搜索关键词: 静电 保护 电路 及其 电池
【主权项】:
一种集成电路的静电保护电路,所述集成电路具有第一连接端和第二连接端,其特征在于,所述静电保护电路包括连接于第一连接端和第二连接端之间的静电保护器件,该静电保护器件包括P型衬底,沿所述P型衬底的上表面向下延伸至P型衬底中的N阱,位于所述P型衬底和所述N阱上的栅氧层,位于所述栅氧层上的栅极,沿所述P型衬底的上表面向下延伸至P型衬底中的第一P+有源区和第一N+有源区,沿所述N阱的上表面向下延伸至N阱中的第二P+有源区和第二N+有源区, 其中,所述第一P+有源区和第一N+有源区相互间隔,且第一N+有源区紧邻所述栅氧层,所述第二P+有源区和第二N+有源区相互间隔,且所述第二P+有源区较第二N+有源区更接近所述栅氧层,N+有源区的N型掺杂浓度较N阱的N型掺杂浓度高, 第一P+有源区、第一N+有源区和栅极与第二连接端相连,第二P+有源区和第二N+有源区与第一连接端相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡中星微电子有限公司,未经无锡中星微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320156659.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top