[实用新型]一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置有效

专利信息
申请号: 201320161843.0 申请日: 2013-04-03
公开(公告)号: CN203178154U 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 丁洪斌;吴兴伟;李聪;张辰飞 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: G01N5/02 分类号: G01N5/02;G01N21/63;G01B7/06
代理公司: 大连星海专利事务所 21208 代理人: 徐淑东
地址: 116024 *** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型涉及脉冲激光沉积镀膜领域,公开了一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置,包括:脉冲沉积(PLD)镀膜系统,激光诱导击穿光谱(LIBS)测量系统,石英晶体微天平(QCM)测量系统。本实用新型基于脉冲激光沉积镀膜技术、激光诱导击穿光谱技术、石英晶体微天平测膜厚技术,能实时原位在线测量脉冲激光沉积镀膜薄膜化学计量比及各成分质量,且不会对镀膜过程有干扰,并且搭建简单,易于操作;适用于脉冲激光沉积镀膜领域。
搜索关键词: 一种 在线 测量 pld 薄膜 化学 计量 比及 成分 质量 装置
【主权项】:
一种在线测量PLD薄膜化学计量比及各成分质量的装置,其特征在于,所述一种在线测量脉冲激光沉积薄膜化学计量比及各成分质量的装置包括:脉冲沉积镀膜系统、激光诱导击穿光谱测量系统、石英晶体微天平测量系统、数据分析系统;所述脉冲激光沉积镀膜系统包括:真空室(1)、脉冲激光器(4),可旋转靶台(6)、靶材(7)、可旋转基底台(8)、基底(9)、第一聚焦透镜(10);所述真空室(1)外壁安装有真空泵组(11)、真空规(14)、进气口(16)、第一石英窗口(12);所述靶材(7)、基底(9)分别放置在真空室(1)内可旋转靶台(6)、可旋转基底台(8)上;所述第一聚焦透镜(10)放置在真空室(1)内且与真空室(1)的第一石英窗口(12)相对应;所述脉冲激光器(4)位于真空室(1)外部;所述激光诱导击穿光谱测量系统包括:光纤光谱仪(2)、第二聚焦透镜(19)、光纤(15);所述第二聚焦透镜(19)放置在真空室(1)内且与真空室(1)的第二石英窗口(20)相对应;所述光纤光谱仪(2)通过光纤(13)采集LIBS光谱;所述石英晶体微天平(QCM)测量系统包括:石英晶体膜厚监测仪(3)、振荡器(5)、石英晶体传感器(17)、石英晶体(21);所述石英晶体(21)固定于石英晶体传感器(17)上并放置在真空室(1)中;所述石英晶体传感器(17)、振荡器(5)、石英晶体膜厚监测仪(3)依次通过BNC电缆连接;所述数据分析系统即计算机(18);所述计算机(18)分别与光纤光谱仪(2)、石英晶体膜厚监测仪(3)、脉冲激光器(4)线路连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320161843.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top