[实用新型]晶圆清洗装置有效
申请号: | 201320216748.6 | 申请日: | 2013-04-25 |
公开(公告)号: | CN203250724U | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 王晖;张晓燕;吴均;陈福平;李学军 | 申请(专利权)人: | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型揭示了一种晶圆清洗装置,包括:主体框架、晶圆装载端口、晶圆传送装置、槽式清洗装置及单片清洗装置。晶圆装载端口设置于主体框架的外侧端,晶圆传送装置、槽式清洗装置及单片清洗装置设置于主体框架内。晶圆装载端口接收和放置晶圆盒,晶圆盒存放晶圆。槽式清洗装置开设有用于传送晶圆的第一晶圆进出口,槽式清洗装置用于一片或多片晶圆的浸泡清洗。单片清洗装置开设有用于传送晶圆的第二晶圆进出口,单片清洗装置用于单片晶圆的清洗和干燥。晶圆传送装置在晶圆装载端口的晶圆盒、槽式清洗装置及单片清洗装置之间传送晶圆。本实用新型通过将槽式清洗装置和单片清洗装置集成于主体框架内,由一套晶圆传送装置完成晶圆的传送,缩短了晶圆清洗工艺周期,降低了生产成本,且集成于一套装置后占用空间缩小。 | ||
搜索关键词: | 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种晶圆清洗装置,其特征在于,包括:主体框架、晶圆装载端口、晶圆传送装置、槽式清洗装置及单片清洗装置,所述晶圆装载端口设置于主体框架的外侧端,所述晶圆传送装置、槽式清洗装置及单片清洗装置设置于主体框架内,其中,所述晶圆装载端口接收和放置晶圆盒,晶圆盒存放晶圆;所述槽式清洗装置开设有传送晶圆的第一晶圆进出口,槽式清洗装置浸泡清洗一片或多片晶圆;所述单片清洗装置开设有传送晶圆的第二晶圆进出口,单片清洗装置清洗和干燥单片晶圆;所述晶圆传送装置在晶圆装载端口的晶圆盒、槽式清洗装置及单片清洗装置之间传送晶圆。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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