[实用新型]靶面自动清洁装置有效

专利信息
申请号: 201320218018.X 申请日: 2013-04-26
公开(公告)号: CN203333748U 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 陈彩刚;李洪波;刘一春 申请(专利权)人: 武汉经开能源科技发展有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 俞鸿
地址: 430000 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型涉及反应磁控溅射靶材清洁装置。靶面自动清洁装置,包括真空室,其特征在于:位于靶材两侧的传动轴和支撑轴穿过真空室并与真空室转动密封;支撑座套设在支撑轴上,并与传动轴丝杠传动连接,且支撑座位于真空室内;清洗装置与支撑座连接,且位于支撑座和靶材之间;驱动装置的输出端与传动轴连接,且位于真空室外。驱动装置驱动传动轴旋转从而带动支撑座和清洗装置上下运动达到清洗目的。当靶材因消耗减少时,可通过调节弹性件从而调节清洗装置和靶材之间的距离达到清洗目的。相对于其他的方法,靶面自动清洁装置能够实时清除靶面沉积物,完全解决靶中毒的困扰,使得反应溅射能够持续稳定的进行。
搜索关键词: 自动 清洁 装置
【主权项】:
靶面自动清洁装置,包括真空室,其特征在于:位于靶材两侧的传动轴和支撑轴穿过真空室并与真空室转动密封;支撑座套设在支撑轴上,并与传动轴丝杠传动连接,且支撑座位于真空室内;清洗装置与支撑座连接,且位于支撑座和靶材之间;驱动装置的输出端与传动轴连接,且位于真空室外。
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