[实用新型]绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201320220640.4 申请日: 2013-04-26
公开(公告)号: CN203288596U 公开(公告)日: 2013-11-13
发明(设计)人: 弗兰克·普菲尔什;汉斯-约阿希姆·舒尔茨;霍尔格·豪斯肯 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06;H01L29/08
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 德国瑙伊*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 本公开提供了一种绝缘栅双极型晶体管,包括:发射极;半导体主体,包括:第一基区,具有第一导电类型,源区,具有不同于第一导电类型的第二导电类型,与发射极电接触,并与第一基区形成第一pn-结;至少一个沟槽,其中至少一个沟槽被填充有栅电极,至少一个沟槽具有:第一沟槽部,具有第一宽度;第二沟槽部,具有第二宽度;第二宽度不同于第一宽度;凹槽,形成在半导体主体的表面上且至少部分形成在源区处,发射极的一部分填充凹槽,使得发射极与源区和第一基区接触。通过利用发射极的一部分来填充第一基区中形成的凹槽,根据本公开的绝缘栅双极型晶体管中的寄生晶闸管结构被破坏,从而有效地避免了闩锁效应的发生。
搜索关键词: 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
一种绝缘栅双极型晶体管(20,30),其特征在于,包括:发射极(29,39);以及半导体主体,其中所述半导体主体包括:第一基区(24,34),具有第一导电类型,源区(25),具有不同于所述第一导电类型的第二导电类型,与所述发射极(29,39)电接触,并与所述第一基区(24,34)形成第一pn‑结;至少一个沟槽,其中所述至少一个沟槽被填充有栅电极(26),其中,所述至少一个沟槽具有:第一沟槽部(261),具有第一宽度;以及第二沟槽部(262),具有第二宽度;所述第二宽度不同于所述第一宽度;以及凹槽(G1,G2),形成在所述半导体主体的表面上并且至少部分形成在所述源区(25)处,其中,所述发射极(29,39)的一部分填充所述凹槽(G1,G2),使得所述发射极与所述源区(25)和所述第一基区(24,34)接触。
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