[实用新型]一种剥离涂层下缝隙内电位二维分布测量装置有效

专利信息
申请号: 201320223233.9 申请日: 2013-04-27
公开(公告)号: CN203229575U 公开(公告)日: 2013-10-09
发明(设计)人: 许进;孙成;于长坤;吴堂清;闫茂成;龙康 申请(专利权)人: 中国科学院金属研究所
主分类号: C23F13/22 分类号: C23F13/22
代理公司: 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 代理人: 屈芳
地址: 110016 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉金属腐蚀测量设备领域,具体地来说为一种剥离涂层下阴极保护电位二维分布多通道电位测量仪。包括底板、置于底板上并与底板固定的盖板,其中盖板与底板之间具有缝隙,所述盖板一侧为溶液区,另一侧上均匀间隔设置阵列式盐桥,所述底板上对应阵列式盐桥的位置设置整体矩形试样放置区。本实用新型可以对缝隙内金属阴极保护电位进行二维分布测量,并进行实时监测。本实用新型设备具有体积小,结构简单,操作方便,检测精度高等优点。
搜索关键词: 一种 剥离 涂层 缝隙 电位 二维 分布 测量 装置
【主权项】:
一种剥离涂层下缝隙内电位二维分布测量装置,其特征在于,包括底板、置于底板上并与底板固定的盖板,其中盖板与底板之间具有缝隙,所述盖板一侧为溶液区,另一侧上均匀间隔设置阵列式盐桥,所述底板上对应阵列式盐桥的位置设置整体矩形试样放置区。
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