[实用新型]研磨工件用研磨垫及化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 201320262515.X | 申请日： | 2013-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN203305049U | 公开（公告）日： | 2013-11-27 |
| 发明（设计）人： | 石井游;伊藤贤也;高桥正三;铃木美加 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | B24B37/22 | 分类号： | B24B37/22;B24B37/00;B24B37/24 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 梅高强;刘煜 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种研磨工件用研磨垫及化学机械研磨装置。一种研磨垫，能对具有由平面和曲面组合而成的表面形状的工件实施镜面加工。研磨垫(3)安装在可旋转的研磨台(4)上。工件(W)保持在托架(1)上，并被按压在研磨垫(3)上。研磨垫(3)具有：具有用于研磨工件(W)的研磨面的弹性垫(31)；支承弹性垫(31)的变形自如的基层(32)；以及将弹性垫(31)与基层(32)接合的粘接层(33)。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 工件 化学 机械 装置 | ||
【主权项】：
一种研磨垫，用于研磨工件，该研磨垫的特征在于，具有：具有研磨面的弹性垫；支承所述弹性垫的变形自如的基层；以及将所述弹性垫与所述基层接合的粘接层。
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