[实用新型]一种气刀及基板镀膜设备有效

专利信息
申请号: 201320283457.9 申请日: 2013-05-22
公开(公告)号: CN203235718U 公开(公告)日: 2013-10-16
发明(设计)人: 田宗民;谢振宇;张家祥 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: B08B5/02 分类号: B08B5/02;C23C14/02;C23C16/02
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种气刀,包括气刀本体;气刀本体具有气体腔室,与气体腔室连通的进气通道,清洁基板时将气体腔室内的气体导向基板被清洁面的排气狭缝,排气狭缝与气体腔室连通;清洁基板时将气体腔室内的气体导向基板边缘的气流通道,气流通道与气体腔室连通;气流通道内具有对气流通道内的气体进行电离的电离元件。上述排气狭缝可以将气体腔室内的气体导向基板的表面,以清洁基板表面的灰尘;上述气流通道可以将气流通道内形成的离子体导向基板边缘,以清除基板边缘的静电。因此,本实用新型不仅能够清洁基板表面的灰尘,而且能够清除基板边缘所产生的静电。本实用新型还公开了一种具有上述气刀的基板镀膜设备。
搜索关键词: 一种 镀膜 设备
【主权项】:
一种气刀,其特征在于,包括气刀本体,所述气刀本体具有:气体腔室;与所述气体腔室连通的进气通道;清洁基板时将所述气体腔室内的气体导向基板被清洁面的排气狭缝,所述排气狭缝与所述气体腔室连通;清洁基板时将所述气体腔室内的气体导向基板边缘的气流通道,所述气流通道与所述气体腔室连通,所述气流通道内具有对所述气流通道内的气体进行电离的电离元件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320283457.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top