[实用新型]一种气刀及基板镀膜设备有效
申请号: | 201320283457.9 | 申请日: | 2013-05-22 |
公开(公告)号: | CN203235718U | 公开(公告)日: | 2013-10-16 |
发明(设计)人: | 田宗民;谢振宇;张家祥 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | B08B5/02 | 分类号: | B08B5/02;C23C14/02;C23C16/02 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种气刀,包括气刀本体;气刀本体具有气体腔室,与气体腔室连通的进气通道,清洁基板时将气体腔室内的气体导向基板被清洁面的排气狭缝,排气狭缝与气体腔室连通;清洁基板时将气体腔室内的气体导向基板边缘的气流通道,气流通道与气体腔室连通;气流通道内具有对气流通道内的气体进行电离的电离元件。上述排气狭缝可以将气体腔室内的气体导向基板的表面,以清洁基板表面的灰尘;上述气流通道可以将气流通道内形成的离子体导向基板边缘,以清除基板边缘的静电。因此,本实用新型不仅能够清洁基板表面的灰尘,而且能够清除基板边缘所产生的静电。本实用新型还公开了一种具有上述气刀的基板镀膜设备。 | ||
搜索关键词: | 一种 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
一种气刀,其特征在于,包括气刀本体,所述气刀本体具有:气体腔室;与所述气体腔室连通的进气通道;清洁基板时将所述气体腔室内的气体导向基板被清洁面的排气狭缝,所述排气狭缝与所述气体腔室连通;清洁基板时将所述气体腔室内的气体导向基板边缘的气流通道,所述气流通道与所述气体腔室连通,所述气流通道内具有对所述气流通道内的气体进行电离的电离元件。
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