[实用新型]一种可调节的磁控溅射靶材有效
| 申请号： | 201320283918.2 | 申请日： | 2013-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN203333749U | 公开（公告）日： | 2013-12-11 |
| 发明（设计）人： | 张祥;魏斌;熊红斌 | 申请（专利权）人： | 张祥 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315175 浙江省宁波市鄞*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 针对磁控溅射靶材的溅射问题，本实用新型提供一种可调节的磁控溅射靶材，包括靶材、固定座、螺丝、弹性布，其中，靶材为两个长方体，固定座为正方体，且固定座的高度小于靶材的高度，固定座和靶材通过螺丝相连接；两个靶材之间连接有弹性布。本实用新型将靶材做成两个长方体，大大节约了靶材，同时，溅射的部位位于靶材上，溅射一端时间后，通过螺丝能够调节靶材之间的距离，也就调节了靶材上的溅射的位置，充分的利用靶材。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 调节 磁控溅射 | ||
【主权项】：
一种可调节的磁控溅射靶材，包括靶材、固定座、螺丝、弹性布，其特征在于：所述的靶材为两个长方体，固定座为正方体，且固定座的高度小于靶材的高度，固定座和靶材通过螺丝相连接；所述的两个靶材之间连接有弹性布。
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