[实用新型]布气装置及其真空磁控溅射镀膜设备有效
申请号: | 201320295747.5 | 申请日: | 2013-05-27 |
公开(公告)号: | CN203333750U | 公开(公告)日: | 2013-12-11 |
发明(设计)人: | 谢建军 | 申请(专利权)人: | 深圳市生波尔机电设备有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人: | 胡海国 |
地址: | 518000 广东省深圳市坪山新*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种布气装置及其真空磁控溅射镀膜设备,所述专用于真空磁控溅射镀膜设备的二进制多段布气装置,一实施例下工艺气体的引入分三路,中间侧为多层二进制主布气管,两端分别增加一组较短的多层二进制从布气管,镀膜气体由于经过多次均匀的分布,最后从每个小孔中排出的气体基本上能保持流量一致均匀。采用本实用新型可以提高布气的均匀性,确保镀膜产品的质量。 | ||
搜索关键词: | 装置 及其 真空 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
【主权项】:
一种布气装置,其特征在于,包括主布气体,其中,所述主布气体包括均为中空且均通过气孔连通的一第一主布气部及至少两个呈层叠组合的第二主布气部,其中:第一主布气部,其具有至少一个第一进气孔以及至少两个第一出气孔;第二主布气部,其层叠组合体与所述第一主布气部为层叠连接,且与所述第一主布气部紧邻的第二主布气部具有与所述第一出气孔数量匹配且连通的至少两个第二进气孔以及数量多于该第二进气孔的第二出气孔,依此类推,远离第一主布气部的第二主布气部具有与前一个第二主布气部出气孔数量匹配且连通的进气孔以及数量多于该当前第二主布气部进气孔的若干个出气孔。
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