[实用新型]具有双离子源的离子注入机有效

专利信息
申请号: 201320316059.2 申请日: 2013-06-03
公开(公告)号: CN203325833U 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 丁杰;严骏;裴雷洪 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/08
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 陆花
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型提出一种具有双离子源的离子注入机,包括:两个离子源,每一所述离子源的出口端的前部增加一隔离阀;一偏转磁场分析器;以及一连接管道,所述连接管道具有第一端、第二端和第三端,所述第一端和第二端的外侧分别增加一离子源偏转磁场,所述第一端和第二端分别连接一所述离子源的出口端,所述第三端连接所述偏转磁场分析器的进口端,用以解决当离子源拆卸下来进行维护时,做到离子注入机运行维护两不误的问题。
搜索关键词: 具有 离子源 离子 注入
【主权项】:
一种具有双离子源的离子注入机,其特征在于,包括:两个离子源,每一所述离子源的出口端的前部增加一隔离阀;一偏转磁场分析器;以及一连接管道,所述连接管道具有第一端、第二端和第三端,所述第一端和第二端的外侧分别增加一离子源偏转磁场,所述第一端和第二端分别连接一所述离子源的出口端,所述第三端连接所述偏转磁场分析器的进口端。
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