[实用新型]具有双离子源的离子注入机有效
申请号: | 201320316059.2 | 申请日: | 2013-06-03 |
公开(公告)号: | CN203325833U | 公开(公告)日: | 2013-12-04 |
发明(设计)人: | 丁杰;严骏;裴雷洪 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/08 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 陆花 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提出一种具有双离子源的离子注入机,包括:两个离子源,每一所述离子源的出口端的前部增加一隔离阀;一偏转磁场分析器;以及一连接管道,所述连接管道具有第一端、第二端和第三端,所述第一端和第二端的外侧分别增加一离子源偏转磁场,所述第一端和第二端分别连接一所述离子源的出口端,所述第三端连接所述偏转磁场分析器的进口端,用以解决当离子源拆卸下来进行维护时,做到离子注入机运行维护两不误的问题。 | ||
搜索关键词: | 具有 离子源 离子 注入 | ||
【主权项】:
一种具有双离子源的离子注入机,其特征在于,包括:两个离子源,每一所述离子源的出口端的前部增加一隔离阀;一偏转磁场分析器;以及一连接管道,所述连接管道具有第一端、第二端和第三端,所述第一端和第二端的外侧分别增加一离子源偏转磁场,所述第一端和第二端分别连接一所述离子源的出口端,所述第三端连接所述偏转磁场分析器的进口端。
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