[实用新型]一种用于化学气相沉积工艺的衬底及石墨盘有效
申请号: | 201320326603.1 | 申请日: | 2013-06-06 |
公开(公告)号: | CN203346473U | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 田益西 | 申请(专利权)人: | 光垒光电科技(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/00 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人: | 杨林;马翠平 |
地址: | 200050 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型提供用于化学气相沉积工艺的石墨盘和衬底,其特征在于:所述衬底形状呈扇形,为了能够利用现有的圆形衬底制作,扇形衬底的扇形圆心角为360°/N,N为大于等于2且小于等于6的自然数。本实用新型还提出了一种石墨盘,具有衬底承载面,所述衬底承载面设有用于容置所述衬底的收容槽。本实用新型提供的扇形衬底在石墨盘上可以排列的比圆形衬底更为紧密,提高了石墨盘的利用率,提高了化学气相沉积设备的产量;且相对于多边形衬底,本实用新型提供的扇形衬底可以由一个圆形衬底分割而成,既便于加工制作,又避免衬底材料的浪费,降低了生产成本,满足了应用的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 化学 沉积 工艺 衬底 石墨 | ||
【主权项】:
一种用于化学气相沉积工艺的衬底,其特征在于:所述衬底呈扇形,所述扇形衬底的扇形圆心角为360°/N,其中N为大于等于2的自然数。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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