[实用新型]一种干法等离子刻蚀机的反应腔有效
| 申请号： | 201320336839.3 | 申请日： | 2013-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN203377195U | 公开（公告）日： | 2014-01-01 |
| 发明（设计）人： | 张钦亮;平志韩;苏静洪;王谟;俞敏人 | 申请（专利权）人： | 天通吉成机器技术有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 | 代理人： | 赵芳;黄芳 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种干法等离子刻蚀机的反应腔，包括圆筒状反应腔和盖在反应腔上面的上盖，上盖的中央位置设有进气孔，反应腔的侧壁、底壁及上盖形成了反应腔，待刻蚀的基片放置在反应腔底壁的中央位置，反应腔上设有取送基片的取送片口；反应腔内设有与之适配的匀流内衬，匀流内衬包括圆筒状的本体，本体上设有与取送片口对应的传送孔，本体底部设有一圈向内延伸的环形底板，环形底板与待刻蚀基片的位置匹配，环形底板上均匀地分布有匀流槽孔；本体的顶部设有与反应腔连接的固定法兰，固定法兰与反应腔之间设有密封槽。本实用新型具有腔室纯净，污染小，腔内气氛均匀性好，使用寿命长的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 反应 | ||
【主权项】：
一种干法等离子刻蚀机的反应腔，包括圆筒状反应腔和盖在反应腔上面的上盖，上盖的中央位置设有进气孔，反应腔的侧壁、底壁及上盖形成了反应腔，待刻蚀的基片放置在反应腔底壁的中央位置，反应腔上设有取送基片的取送片口；其特征在于：反应腔内设有与之适配的匀流内衬，匀流内衬包括圆筒状的本体，本体上设有与取送片口对应的传送孔，本体底部设有一圈向内延伸的环形底板，环形底板与待刻蚀基片的位置匹配，环形底板上均匀地分布有匀流槽孔；本体的顶部设有与反应腔连接的固定法兰，固定法兰与反应腔之间设有密封槽。
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