[实用新型]一种光罩人工擦拭装置有效
申请号: | 201320366113.4 | 申请日: | 2013-06-24 |
公开(公告)号: | CN203385992U | 公开(公告)日: | 2014-01-08 |
发明(设计)人: | 丁和平 | 申请(专利权)人: | 彩虹(佛山)平板显示有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82;G03F1/84;B08B13/00 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 蔡和平 |
地址: | 528300 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光罩人工擦拭装置,包括支撑架,支撑架上设置有与光罩尺寸相匹配的旋转平台,旋转平台通过支撑旋转轴承安装在支撑架上;旋转平台的两侧设置有用于照亮旋转平台上的光罩的两个表面检查灯。本实用新型的旋转台的尺寸与光罩的尺寸相匹配,光罩能够准确卡在旋转台上,擦拭时不会前后左右移动;另外,旋转平台通过支撑旋转轴承能在支撑架旋转任意角度,保证能够看到光罩上面任何一点的异物;最后,旋转平台的两边各有一台灯头可任意转动的表面检查灯,以达到所需要照射的角度;本实用新型结构简单,成本低,完全适用于在小型生产线或实验室内对光罩的人工擦拭。 | ||
搜索关键词: | 一种 人工 擦拭 装置 | ||
【主权项】:
一种光罩人工擦拭装置,其特征在于:包括支撑架(1),支撑架(1)上设置有与光罩尺寸相匹配的旋转平台(5),旋转平台(5)通过支撑旋转轴承(6)安装在支撑架(1)上;旋转平台(5)的两侧设置有用于照亮旋转平台(5)上的光罩的两个表面检查灯(2)。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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