[实用新型]一种MOCVD反应设备

摘要

本实用新型公开了一种MOCVD反应设备，包括反应腔室、主进气口、排气口、载片盘和加热组件、次进气口、机械手通道、磁流体和马达、真空泵和尾气处理箱等，反应腔室内设有第一隔热筒，该第一隔热筒的内径小于或等于载片盘的直径，使得第一隔热筒与载片盘形成一个上方圆周方向有间隙的第一腔体。本实用新型的保护气体或冷却气体进气第一腔体后只能通过间隙，沿着载片盘下表面水平向外流动，防止保护气体或冷却气体相对于主气流逆向流动，对反应腔室内的气场造成紊乱。

主权项

 一种MOCVD反应设备，包括密封的反应腔室（1）、主进气口（2）、排气口（3）、载片盘（4）、加热组件（5），以及反应腔室底部载片盘下方的次进气口（6），其特征在于，所述加热组件的外侧、载片盘的下方设有第一隔热筒（7），所述第一隔热筒与载片盘构成一上方圆周方向设有间隙的第一腔体（14）。