[实用新型]一种能提高数据线关键尺寸均匀性的掩膜板及阵列基板有效

专利信息
申请号: 201320414732.6 申请日: 2013-07-12
公开(公告)号: CN203337996U 公开(公告)日: 2013-12-11
发明(设计)人: 刘耀;丁向前;李梁梁;白金超;赵亮;刘晓伟;郭总杰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G03F1/00 分类号: G03F1/00
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型实施例提供了一种能提高数据线最终关键尺寸均匀性的掩膜板以及应用该掩膜版所制备出来的阵列基板,涉及光刻技术领域,该掩膜板用于生成均一性效果较好的数据线。本实用新型实施例提供的掩膜板,掩膜板中包括用于形成数据线的数据线掩膜图形,近连接线区域内的数据线掩膜图形的宽度大于预设的数据线掩膜图形的宽度,远连接线区域内的数据线掩膜图形的宽度等于预设的数据线掩膜图形的宽度。
搜索关键词: 一种 提高 数据线 关键 尺寸 均匀 掩膜板 阵列
【主权项】:
一种能提高数据线最终关键尺寸均匀性的掩膜板,所述掩膜板中包括用于形成数据线的数据线掩膜图形,其特征在于,对应于阵列基板上近连接线区域内的所述数据线掩膜图形的宽度大于预设的所述数据线掩膜图形的宽度,对应于阵列基板上远连接线区域内的所述数据线掩膜图形的宽度等于预设的所述数据线掩膜图形的宽度。
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