[实用新型]一种二流体喷管组件以及运用此组件的二流体蚀刻装置有效
申请号: | 201320425911.X | 申请日: | 2013-07-17 |
公开(公告)号: | CN203355935U | 公开(公告)日: | 2013-12-25 |
发明(设计)人: | 陈德和 | 申请(专利权)人: | 宇宙电路板设备(深圳)有限公司 |
主分类号: | B05B7/04 | 分类号: | B05B7/04;H01L21/67 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及清洗、蚀刻工艺设备的技术领域,公开了一种二流体喷管组件以及运用此组件的二流体蚀刻装置,二流体喷管组件包括用于输送压缩空气的进气管,以及用于输送药液且与所述进气管并列设置的喷管,所述喷管上间隔设有多个用于混合所述压缩空气和所述药液形成二流体并喷射的喷嘴,所述喷嘴与所述进气管通过导气管连通。本实用新型提出的二流体喷管组件以及运用此组件的二流体蚀刻装置,在药液喷淋的基础上通过喷管组件将压缩空气与药液混合形成二流体对基片进行喷淋蚀刻,提高了喷淋液滴的微粒化程度,提高了线路的蚀刻因子,提高了对基片的蚀刻能力,进而提升了对基片制作精密线路的制程能力。 | ||
搜索关键词: | 一种 流体 喷管 组件 以及 运用 蚀刻 装置 | ||
【主权项】:
一种二流体喷管组件,其特征在于,包括用于输送压缩空气的进气管,以及用于输送药液且与所述进气管并列设置的喷管,所述喷管上间隔设有多个用于混合所述压缩空气和所述药液形成二流体并喷射的喷嘴,所述喷嘴与所述进气管通过导气管连通。
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